自動化平行反應(yīng)器憑借高通量、多參數(shù)并行實驗?zāi)芰Γ殉蔀樗幬锖Y選、催化劑優(yōu)化和工藝開發(fā)的核心工具。然而，殘留物交叉污染是其長期運行中的主要風險，尤其在處理高活性化合物(如細胞毒素、激素類)時，可能嚴重影響后續(xù)實驗結(jié)果的準確性與重現(xiàn)性。因此，建立科學的清洗與防污染體系至關(guān)重要。
一、全流程清洗策略
實驗后即時沖洗：反應(yīng)結(jié)束后，立即用惰性溶劑(如甲醇、乙腈或DMF)對反應(yīng)管、加料針、管路進行自動沖洗程序，防止產(chǎn)物固化；
多級清洗循環(huán)：高端系統(tǒng)支持“溶劑A→溶劑B→超純水→氮氣吹干”多步清洗，確保無有機/無機殘留；
超聲輔助清洗：對頑固附著物，可將反應(yīng)模塊移至超聲波清洗槽中處理10–15分鐘；
高溫烘烤：部分機型集成60–120℃烘干功能，徹底去除水分與揮發(fā)性殘留。
二、防交叉污染設(shè)計要點
一次性耗材應(yīng)用：采用可更換的PTFE反應(yīng)內(nèi)襯、密封墊和取樣針頭，實現(xiàn)“一釜一換”；
獨立流路隔離：每個反應(yīng)位配備專屬加料與排氣通道，避免共用管路導(dǎo)致串擾；
負壓排風系統(tǒng)：在開蓋或取樣時啟動局部負壓，防止氣溶膠擴散；
材質(zhì)兼容性：接觸面均采用316L不銹鋼或高純PTFE，耐腐蝕且不易吸附分子。
三、驗證與合規(guī)管理
依據(jù)ICH Q2(R2)與GMP要求，應(yīng)定期執(zhí)行清潔驗證：
使用HPLC或TOC檢測清洗后溶劑中的殘留峰；
設(shè)定接受標準(如殘留≤0.1%或10 ppm)；
建立清洗日志，記錄溶劑類型、次數(shù)、操作人員及驗證結(jié)果。
通過“硬件隔離+程序清洗+驗證閉環(huán)”三位一體方案，可將交叉污染風險降至較低，保障高通量實驗數(shù)據(jù)的可靠性與合規(guī)性。
